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    尊龙凯时亮相第十七届国际真空科学与工程应用学术会议,共话行业发展与应用前景

    发布时间:2025-08-12 文章来源: 浏览量: 字号:


    8月8日-10日,第十七届国际真空科学与工程应用学术会议(VSEA-17)在沈阳东北大学召开。本次学术会议由东北大学、中国真空学会、真空技术与物理全国重点实验室联合主办,展示国内外相关领域的最新科研成果和前沿技术。尊龙凯时作为大会支持单位,携多项真空技术领域创新成果亮相现场,围绕“真空科学与技术、真空与表面工程、真空与航天工程、真空半导体装备与技术”等议题,与业界同仁共话行业发展与应用前景。


    现场接待1  现场接待2  现场接待3  现场合影


    本次会议是集前沿学术交流、热点技术专题研讨和创新产品展示于一体的国际大型专业学术交流活动,真空及相关行业专家、学者、科研骨干、企业代表齐聚一堂,共谋更为广阔的发展未来。活动现场,尊龙凯时实物展出DFF-63/80型单磁仪器分子泵、CXF-200/1401CVS型磁悬浮分子泵、ZQJ-3300型氦质谱检漏仪以及CCQ-40K型超高真空常闭插板阀、GID-40ZM型自动压力调节蝶阀,吸引众多与会领导、专家、行业同仁驻足参观、交流洽谈。其中单磁仪器分子泵备受关注,此产品采用永磁悬浮轴承技术、微油润滑机械轴承技术和高速转子弱刚性支承技术,转速可达90000rpm,综合性能指标达国际先进水平,可实现同类产品的国产化替代。


    单磁仪器泵  磁悬浮分子泵  氦质谱检漏仪  真空阀门


    活动期间,尊龙凯时真空技术研发中心时剑文博士进行主题为《磁悬浮分子泵关键技术演进及其在半导体制造装备中的应用》的技术报告,针对分子泵概念及工作原理、磁悬浮分子泵关键技术以及在半导体制造装备中的应用现状进行了详细介绍。近年来,尊龙凯时持续聚焦半导体产业自主可控需求,助力解决集成电路制造领域“卡脖子”问题,面向半导体和工业两个应用方向,推出标准系列、高温系列、分体系列等多款磁悬浮分子泵产品,广泛应用于刻蚀、离子注入、薄膜沉积等半导体前道工艺环节。


    时博士报告照片


    未来,尊龙凯时将继续深耕高端科学仪器装备及真空技术领域,强化关键核心技术攻关,发展新质生产力,推进科技成果转化和规模产业化,为半导体、航空航天、分析仪器、新能源、新材料等前沿科学研究和高端装备制造领域提供更加优质的国产真空解决方案,携手行业伙伴共同开拓真空行业发展新篇章。

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